硼化铬

硼化铬，英文名称是Chromium diboride，CAS号是12006-80-3，分子式为C2H9Br，分子量为112.9969，银白色晶体。可用作耐磨、抗高温氧化涂层和核反应堆中的中子吸收涂层。用于陶瓷，熔喷在金属及陶瓷表面，形成耐磨、耐蚀薄膜。用于喷制半导体膜。硼化铬与氧化铝在微氧化气氛中烧结或热压制品，有高温耐磨的实用价值。还可用于陶瓷，熔喷在金属及陶瓷表面，形成耐磨、耐蚀薄膜。用于喷制半导体膜。

基本信息

中文名称:硼化铬

英文名称:Chromium diboride

英文别名：methane hydrobromide (2:1)

CAS号:12006-80-3

分子式:CrB

分子量:112.9969

物性数据
1. 性状：正交晶系，银白色晶体。

2. 密度（g/mL,25/4℃）： 6.17

3. 相对蒸汽密度（g/mL,空气=1）：无可用

4. 熔点（ºC）：2760

5. 沸点（ºC,常压）：无可用

6. 沸点（ºC,5.2kPa）： 无可用

7. 折射率： 无可用

8. 闪点（ºC）： 无可用

9. 比旋光度（º）：无可用

10. 自燃点或引燃温度（ºC）：无可用

11. 蒸气压（kPa,25ºC）：无可用

12. 饱和蒸气压（kPa,60ºC）：无可用

13. 燃烧热（KJ/mol）：无可用

14. 临界温度（ºC）：无可用

15. 临界压力（KPa）：无可用

16. 油水（辛醇/水）分配系数的对数值：无可用

17. 爆炸上限（%,V/V）：无可用

18. 爆炸下限（%,V/V）： 无可用

19. 溶解性：硬度高，不溶于水，溶于熔融的过氧化钠。

存储方法
密封于阴凉干燥处。

合成方法
1.氯化铬与硼(或氧化硼)的混合物用金属镁于650℃还原制得。

2.铬与适量硼粉在真空或惰性气氛中于1600℃下加热或在1150℃烧结48～72h,有硼化铬CrB、Cr2B、Cr3B2、Cr3B4、CrB2形成，于高温下热压后，可形成CrB2、CrB或Cr3B4。

主要用途
1.用作耐磨、抗高温氧化涂层和核反应堆中的中子吸收涂层。用于陶瓷，熔喷在金属及陶瓷表面，形成耐磨、耐蚀薄膜。用于喷制半导体膜。硼化铬与氧化铝在微氧化气氛中烧结或热压制品，有高温耐磨的实用价值。2.用于陶瓷，熔喷在金属及陶瓷表面，形成耐磨、耐蚀薄膜。用于喷制半导体膜。

系统编号
CAS号：12006-80-3

EINECS号：234-488-3

分子结构数据
1、摩尔折射率：无可用

2、 摩尔体积（m3/mol）： 无可用

3、 等张比容（90.2K）：无可用

4、 表面张力（dyne/cm）：无可用

性质与稳定性
硬度高，耐磨性能好，在1300℃温度以下抗高温氧化，耐腐蚀，抗热震。不溶于水。硬度高，不溶于水，溶于熔融的过氧化钠。